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2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì) ——中國雄安站

更新時(shí)間:2024-08-23瀏覽:666次

2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì)

——中國雄安站

2024年8月23-25日,在河北省雄安新區(qū)展開2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì)會(huì)議主題為:專業(yè)智能•承續(xù)創(chuàng)新•鏈合發(fā)展,這看似簡(jiǎn)單的字眼,但對(duì)于經(jīng)皮給藥領(lǐng)域來說,卻是一個(gè)挑戰(zhàn),傳承與創(chuàng)新是制藥行業(yè)永恒不變的話題,也是驅(qū)動(dòng)制藥技術(shù)變革的內(nèi)在動(dòng)力。

2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì) ——中國雄安站 

本次峰會(huì)將全面且深入地闡述國內(nèi)外經(jīng)皮給藥制劑的發(fā)展概況,以國際化的視野和專業(yè)的剖析,呈現(xiàn)該領(lǐng)域的全景式畫卷。細(xì)致探討國內(nèi)經(jīng)皮給藥制劑發(fā)展進(jìn)程中所遇到的問題與面臨的困難。就經(jīng)皮給藥制劑的未來發(fā)展趨勢(shì),行業(yè)發(fā)展方向,為產(chǎn)業(yè)的持續(xù)進(jìn)步提供前瞻性思考。

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上海梓夢(mèng)科技有限公司一直專注于醫(yī)藥分析,為助力經(jīng)皮給藥制劑行業(yè)的穩(wěn)健發(fā)展,公司始終秉承誠信求實(shí)、創(chuàng)新發(fā)展的企業(yè)精神,持續(xù)深耕于醫(yī)藥研發(fā)粒度分析行業(yè),以匠人精神做好產(chǎn)品與服務(wù),以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)贏得越來越多的客戶與市場(chǎng)的認(rèn)同,為客戶提供測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確、性價(jià)比高的儀器設(shè)備。

25日下午16:30-17:00,梓夢(mèng)科技總經(jīng)理韓廣乾,將會(huì)和大家分享經(jīng)皮給藥制劑中液滴粒徑和API粒徑分析,如果在經(jīng)皮給藥行業(yè)遇到疑點(diǎn)難點(diǎn)都可以在會(huì)上進(jìn)行技術(shù)溝通。

本次會(huì)議為助力經(jīng)皮給藥制劑行業(yè)發(fā)展,梓夢(mèng)科技將攜帶外用制劑粒度分析儀ZML310、中藥粉大顆粒分析儀ZMV850參展。

 

外用制劑粒度分析儀ZML310


 

2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì) ——中國雄安站


外用制劑粒度分析儀ZML310,也稱作透皮乳膏粒度分析儀。主要用于檢測(cè)外用制劑(乳膏、軟膏、凝膠)、透皮膏貼、混懸劑、納米晶、API原料藥等研發(fā)實(shí)驗(yàn)室使用,可以用來測(cè)量顆粒粒度大小,形狀特征,顆粒表面顏色等參數(shù)。

儀器由顯微鏡主機(jī)(可以選擇不同品牌)、高分辨率CCD 攝像機(jī)、專業(yè)智能粒度、粒形分析軟件和計(jì)算機(jī)等部分組成。該儀器具有直觀、可視、準(zhǔn)確、測(cè)試范圍寬、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

 

中藥粉大顆粒分析儀ZMV850

2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì) ——中國雄安站

ZMV850大顆粒計(jì)數(shù)粒度圖像分析儀系統(tǒng)是采用圖像法測(cè)量顆粒粒度大小、形狀特征、顆粒表面顏色的顆粒分析系統(tǒng)。產(chǎn)品是由光學(xué)掃描平臺(tái)、顆粒圖像分析軟件、高分辨率CCD線性傳感器等部分組成。其工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和光學(xué)掃描平臺(tái),將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中,用專門的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。

2024年經(jīng)皮給藥產(chǎn)業(yè)鏈會(huì)議--暨制藥技術(shù)傳承創(chuàng)新研討會(huì) ——中國雄安站結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法,將目標(biāo)顆粒與背景分離,分析出各種測(cè)量參數(shù),并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

 


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